跑步

半导体电子设备半导体设备国产化专题三荐股

2019-08-14 18:08:50来源:励志吧0次阅读

半导体、电子设备:半导体设备国产化专题三 荐 股 2019-06-10 类别: 机构: 研究员:

[摘要]

据DRAMeXchange报道,长江存储器基地一期已实现量产,一季度产能达到5000片/月,今年有 DNAND的大规模生产计划,表明长江存储正从研发走向量产产能扩张。从中国国际招标网数据显示,2019年国产设备在长江存储的中标数量大幅增加,尤其是中微的刻蚀设备、盛美的清洗设备、北方华创的热处理和PVD来自长江存储的订单显著增加,而沈阳拓荆的CVD、华海清科的CMP也已首次从长江存储获得订单。

长江存储的工艺设备采购计划集中释放,产能将快速扩张。

DRAMeXchange显示,长江存储项目总投资240亿美元,将新建月产能为 0万片的 DNand生产线,相当于1万片/月产能对应投资8亿美元。

长江存储武汉基地一期,已实现 2层64Gb DNANDFlash小规模量产,今年第一季度产能达到5000片/月;今年以来,长江存储设备采购数量和密集度都很大,国产 DNAND将从研发走向大规模生产。

长江存储对CVD、刻蚀设备的采购数量最多,比例明显增加。

根据中国国际招标网数据统计,截至目前,该项目工艺设备已采购1166台工艺设备,包括光刻机19台,刻蚀设备165台,CVD260台,清洗设备67台、离子注入机26台,PVD17台,CMP 4台,量测设备4 2台,还有热处理设备91台,涂胶显影设备26台、去胶设备24台,镀铜设备5台。与华力二期相比,CVD、刻蚀设备的采购数量比例明显增加。

总体国产设备中标的数量占比8%,剔除量测口径下国产化率12%,与华力二期基本相当,但低于华虹无锡项目的设备国产化率。

该产线总体国产设备中标91台,国产化率为8%,不包含量测设备口径下的国产化率为12%,相同口径下华力二期的国产化率依次是8%、12.5%,华虹无锡项目国产化率依次是14%、21%。

各类关键工艺设备国产化差异大,CMP、PVD、刻蚀、清洗设备、热处理的国产化率处于10%- 0%,而CVD国产化率仅1%,量测、光刻、离子注入机、涂胶显影、镀铜设备全部依赖进口。

CMP、PVD、刻蚀、清洗设备、热处理等的国产化率依次是12%、18%、18%、22%、 0%,去胶设备国产化率 8%(由Mattson供应);CVD设备:招标260台,国产设备沈阳拓荆中标 台,国产化率仅为1%;离子注入机、涂胶显影、镀铜设备、量测、光刻尚无国产设备进入该产线,100%依赖于进口品牌。

北方华创、中微、盛美引领工艺设备国产化,拓荆、华海清科也将进入长江存储产线。

长江存储产线上,北方华创累计中标 台工艺设备,中微半导体中标21台刻蚀设备,盛美中标1 台清洗设备,华海清科中标4台CMP设备,沈阳拓荆中标 台CVD设备,Mattson中标7台去胶设备、 台退火设备和1台刻蚀设备,合计91台设备。

红斑狼疮能吃维生素D吗
血栓可以治疗吗
血栓的原因
肚子疼拉稀是怎么回事啊
分享到: